立昂东芯释放为5G应用开发的新一代InGaP HBT工艺技术PDK

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立昂东芯第二代高频率高可靠性InGaP HBT工艺技术LH06 PDK于2021年10月成功释放给国内顶级射频芯片设计公司,为知名手机终端客户设计5G手机用芯片加快进程。

立昂东芯第二代InGaP HBT工艺技术基于不同的异质结新思路,新技术注重了线性度、效率、可靠性以及生产成本的考量,采用业界先进的全自动高精度湿法蚀刻机台,其效率(PAE)和抗失配(Ruggedness)特性均达到世界领先水平。

配合国内顶级设计公司的设计,立昂东芯将充分利用其FAB先进的工艺制程能力和严格的质量管理,以及丰富的生产经验和一流的解决问题能力,会迅速将先进的为5G应用开发的第二代InGaP HBT工艺技术推向市场,并将很快打破所谓“大陆做不了5G PA芯片代工”的谬论。